Получение и свойства фтортеломеров окиси пропилена
- Авторы: Ким И.П.1, Шестаков А.Ф.1, Шульга Ю.М.1, Гак В.Ю.1, Аллаяров С.Р.1
-
Учреждения:
- Федеральный исследовательский центр проблем химической физики и медицинской химии РАН
- Выпуск: Том 59, № 1 (2025)
- Страницы: 59-68
- Раздел: РАДИАЦИОННАЯ ХИМИЯ
- URL: https://rjraap.com/0023-1193/article/view/684670
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0023119325010089
- EDN: https://elibrary.ru/SOYRJC
- ID: 684670
Цитировать
Аннотация
В растворах тетрафторэтилена в окиси пропилена с концентрациями 0.08–4.2 моль/л под действием гамма-лучей источника 60Со при комнатной температуре образуются теломеры, длина цепи которых зависит от содержания мономера в растворе. Расход мономера в процессе облучения контролировали калориметрически и гравиметрически, его полная конверсия наблюдается при дозах облучения 10–15 кГр. Молекулярно-массовые характеристики продуктов радиолиза определены методом термогравиметрии. Теломеры с длиной цепи меньше 6 образуют истинные растворы. При степени полимеризации мономера 6–15 образуются коллоидные растворы, при более 15 – плотные гели. В структуре фтортеломера окиси пропилена сохраняется концевая функциональная эпоксигруппа. Морфология слоев покрытий исследовалась атомно-силовой микроскопией.
Об авторах
И. П. Ким
Федеральный исследовательский центр проблем химической физики и медицинской химии РАН
Автор, ответственный за переписку.
Email: ipkim@icp.ac.ru
Россия, Черноголовка
А. Ф. Шестаков
Федеральный исследовательский центр проблем химической физики и медицинской химии РАН
Email: ipkim@icp.ac.ru
Россия, Черноголовка
Ю. М. Шульга
Федеральный исследовательский центр проблем химической физики и медицинской химии РАН
Email: ipkim@icp.ac.ru
Россия, Черноголовка
В. Ю. Гак
Федеральный исследовательский центр проблем химической физики и медицинской химии РАН
Email: ipkim@icp.ac.ru
Россия, Черноголовка
С. Р. Аллаяров
Федеральный исследовательский центр проблем химической физики и медицинской химии РАН
Email: ipkim@icp.ac.ru
Россия, Черноголовка
Список литературы
- Иванчев С.С., Мякин С.В.// Успехи химии. 2010. Т. 72. С. 117.
- White W.R., Dueser M., Reed W.A., Onishi T. // IEEE Photonics Techn. Lett. 2000. V. 12. P. 347.
- Gravina R., Testa G., Bernini R. // Sensors. 2009. V. 9. P. 10423.
- McKeen L.W. / Fluorinated coatings and finishes handbook. PDL Series. N.Y.: Andrew Publ., 2005.
- Ameduri B., Boutevin B. Well-architectured fluoropolymers: Synthesis, properties and applications. Amsterdam: Elsevier, 2004.
- Potemkin I.I., Palyulin V.V. // Polym. Sci. Ser. A. 2009. V. 51. P. 163.
- Erukchimovich I., Theodorakis P.E., Paul W., Binder K. // J. Chem. Phys. 2011. V. 134. 054906.
- Soules A., Pozos C., Ameduri B., Joly-Duhamel C., Essahli M., Boutevin B. // J. Polym. Sci. A. 2008. V. 46. P. 3214.
- Schuman P.D. US Patent 5690863, November 25, 1997.
- Mah S., Choi J., Lee H., Choi S. // Fibers and Polymers. 2000. V. 1. P. 1.
- Chen Y., Zhang G., Zhang H. // J. Appl. Polym. Sci. 2001. V. 82. P. 269.
- Casagrande C., Fabre P., Raphael E., Veyssie M. // Europhys. Lett. 1989. V. 9. P. 251.
- Dendukuri D., Hatton T.A., Doyle P.S. // Langmuir 2007. V. 23. P. 4669.
- Elemants A.A.W., Lei S., De Feyer S. // Angew. Chem. Int. Ed. 2009. V. 48. P. 7298.
- Cadeddu A., Ciesielski A., El Malah T., Hecht S., Samori P. // Chem. Commun. 2011. V. 47. P. 10578.
- Ким И.П., Шестаков А.Ф. // Химия высоких энергий. 2009. Т. 44. C. 516.
- Ким И.П., Перепелицина Е.О., Шестаков А.Ф., Шульга Ю.М., Куница А.А. // Химия высоких энергий. 2011. Т. 45. № 6. C. 511.
- Perdew J.P., Burke K., Ernzerhof M. // Phys. Rev. Lett.1996. V. 77. P. 3865.
- Stevens W.J., Bash H., Krauss M. // J. Chem. Phys.1984. V. 12. P. 6026.
- Laikov D.N. // Chem. Phys. Lett. 1997. V. 281. P. 151.
- Шестаков А.Ф., Ким И.П. // Химия высоких энергий. 2009. Т. 44. C. 555.
- Ким И.П., Колесникова А.М. // Журнал физической химии. 2011. Т. 85. C. 1782.
- Ким И.П. // Химия высоких энергий. 2011. Т. 45. C. 399.
- Ким И.П., Бендерский В.А. // Химия высоких энергий. 2011. Т. 45. C. 406.
- Zhang Y., Lam Y.M. // J. Colloid and Interface Sci. 2005. V. 285. P. 80.
- Chou S.-H., Tsao H.-K., Sheng Y.-J. // J. Chem. Phys. 2011. V. 134. P. 034904.
- Liang C.Y., Krimm S. // J. Chem. Phys. 1956. V. 25. P. 563.
- Lappan U., Geißler U., Lunkwitz K. // Radiation Physics and Chemistry. 2000. V. 59. P. 317.
- Smith A.L. Applied Infrared Spectroscopy: Fundamentals, Techniques, and Analytical Problem-Solving. Chichester, UK: John Wiley & Sons, 1979.
Дополнительные файлы
